Samsung entwickelt Bornitrid-Graphen als Interconnect-Trennschicht

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Samsung vermeldet eine weitere Neuentwicklung aus dem Bereich der Halbleiterherstellung. Sogenanntes amorphes Bornitrid-Graphen oder auch weißes Graphen soll als Trennschichten in Halbleiterbauelementen zum Einsatz kommen. Das amorphe Bornitrid-Graphen ist eine gemeinsame Entwicklung des Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT), des Ulsan National Institute of Science and Technology (UNIST) in Korea und der University of Cambridge.
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Germanium ist ja auch berühmt geworden für seine metallischen Eigenschaften. Es gibt auch keine Vertreter der Metalle, die noch besser für deren metallischen Charakter stehen wie das Germanium....

Zum Germanium wurde ich am schnellsten zwecks Angabe der Permittivität.
 
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