Bornitrid-Graphen
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Samsung entwickelt Bornitrid-Graphen als Interconnect-Trennschicht
Samsung vermeldet eine weitere Neuentwicklung aus dem Bereich der Halbleiterherstellung. Sogenanntes amorphes Bornitrid-Graphen oder auch weißes Graphen soll als Trennschichten in Halbleiterbauelementen zum Einsatz kommen. Das amorphe Bornitrid-Graphen ist eine gemeinsame Entwicklung des Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT), des Ulsan National Institute of Science and Technology (UNIST) in Korea und der University of Cambridge. Das... [mehr]